捷佳伟创（300724）：定增加速HIT布局，进军半导体清洗设备业务

步步为赢

捷佳伟创(300724)

事件： 9 月 29 日晚公司发布定增预案，拟募资不超过 25.0 亿元，用于光伏电池设备扩产、半导体设备研发项目及补充流动资金。

投资要点

募资投向光伏电池设备扩产和半导体设备研发，打开成长空间。 本次募集资金主要用于投资：（ 1）泛半导体装备产业化项目（ 10.0 亿元），将新增每年 20GW Perc+湿法设备、 20GW HJT 湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜 CVD；（ 2）二合一透明导电膜设备产业化项目（ 3.3 亿元），将新增每年 50 套 HJT 电池镀膜设备；（ 3）先进半导体装备研发项目（ 6.5亿元），致力于实现湿法清洗设备的规模化生产，并构建半导体湿法及气相沉积设备供给线；（ 4） 补充流动资金（ 5.2 亿元）。

PECVD 为 HIT 电池生产中最关键设备，募资扩产有望实现后发追赶。HIT 电池技术将是下一代光伏电池确定的趋势，其中非晶硅沉积设备占HIT 整线投资额的 50%，最为关键。非晶硅沉积设备中， PECVD 为主流，目前捷佳伟创 PECVD 设备有相关样机但未发货到客户处，具体技术离完全落地还有距离，进度仍落后于国内其他厂商。本次定增募投的泛半导体装备产业化项目，经产业化验证后，将形成单层载板式非晶半导体薄膜 CVD 设备生产基地，加快 PECVD 布局，有望实现后发追赶。

进军半导体清洗设备，赛道好空间大，容易率先实现国产化。 目前清洗设备在半导体设备市场中价值量占比约 5%-6%，随着晶圆制程工艺的复杂化，清洗机占比整线的比例有望提高至 10%。同时由于清洗机的技术门槛相对较低，我们认为比较容易率先实现全面国产化。我们预计国产清洗机每年的市场空间在 40-70 亿元。我们认为，捷佳伟创的湿法设备在 PERC 电池时代为国内龙头，向与光伏电池片工艺相关的半导体产业链延伸，技术有积淀且未来成长空间广阔。

盈利预测与投资评级： 我们预计 2020-2022 年的净利润分别为 5.5， 6.7，7.4 亿，对应当前股价 PE 为 61、 50、 45 倍，我们看好公司光伏设备业务的发展，募投半导体清洗设备项目将进一步打开想象空间，维持“增持”评级。

风险提示： 新品开发不及预期，下游工艺迭代不及预期

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