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标题: 捷佳伟创首批半导体清洗设备成功交付 [打印本页]

作者: 股票王 时间: 2021-7-23 12:57
标题: 捷佳伟创首批半导体清洗设备成功交付
   捷佳伟创首批半导体清洗设备成功交付点评：

   1、公司昨晚微信公众号发布，2021年7月21日成功交付3套槽式湿法清洗设备批量订单至重要客户量产线。

   2、半导体设备业务进展迅速。公司于2020年9月投资成立了创微微电子（常州）有限公司，专门从事集成电路湿法清洗工艺设备业务，主要包含槽式和单片式晶圆湿法清洗设备。槽式清洗设备在全球约8-10亿美元市场空间，主要面向8寸及12寸成熟工艺。公司正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路8寸及以下近70%湿法工艺步骤。12寸单片式清洗、和其他干法集成电路设备正在研发布局中。

   3、HJT中试线首片以下线，静待效率数据。公司HJT中试线异质结电池首片下线，试验线位于常州，制绒、非晶硅镀膜、TCO、丝网印刷等工序的主机及自动化全线贯通，设备均为公司自研，在PECVD环节包括板式和管式，在TCO环节包括PVD/PAR，公司将对多种技术路线同时验证，以满足不同客户的需求。中试线将补齐公司在PECVD环节的验证数据，目前HJT试验线正在效率爬升中，静待验证数据。此外，两种PECVD也均送至客户现场验证。

   4、Topocn方面PECVD验证进展顺利。公司在Topcon方面具有完整的产品布局，在隧穿氧化层上同时有LPCVD和管式PECVD设备，管式PECVD设备已在客户现场验证且取得较好效果。Topcon无论是改造还是新建，公司均有望受益。

   5、此前多种因素使得公司异质结特别是PECVD环节与友商相比进展滞后，试验线验证结果将补齐PECVD环节数据，并且公司在HJT、Topcon两条技术路线及其中的多种设备路线中布局全面，无论未来哪一种技术路线/设备路线胜出，公司均将受益。同时公司向集成电路设备拓展，并迅速取得了成功，未来有望在泛半导体设备领域多轮驱动成长。

   6、公司前天公布首片HJT电池片下线，昨天公布成功交付半导体湿法设备，在光伏新技术和半导体领域同时实现突破。机构认为公司在新技术上的研发和产业化能力被大大低估，预期未来2个月公司新技术进展进入密集落地期，在HIT、Topcon等多个跑道绽放光芒。预计公司2021-2022年归母净利润9.38、12.37亿元，对应PE 52、40倍，无论在光伏还是半导体设备中，估值均有较高性价比，除此次半导体的进展外，后续异HJT的效率数据将有望进一步打开公司估值空间，机构给与中期目标市值800亿元，尚有空间继续看好。

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